特許

J-GLOBAL ID：200903054950559096

被洗浄物の洗浄方法

発明者： 杉本 達也 ,  菅原 充
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
代理人 (1件)： 大石 治仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-129401
公開番号（公開出願番号）：特開2001-300446
出願日： 2000年04月28日
公開日（公表日）： 2001年10月30日
要約：

【要約】【課題】被洗浄物を添加剤を含む炭化水素で洗浄し、環状フッ化炭化水素系溶剤でリンスする被洗浄物の洗浄方法において、洗浄性を向上させ、各洗浄剤およびリンス洗浄剤の組成変化を引き起こさず、洗浄液の管理を容易ならしめ、かつ洗浄液のロスを少なくしてランニングコストを低減させる被洗浄物の洗浄方法を提供する。【解決手段】被洗浄物を、添加剤と炭化水素とを含む第1の洗浄剤で洗浄する第1の洗浄工程と、前記洗浄剤が付着した被洗浄物を炭化水素を用いてすすぐ第2の洗浄工程と、及び前記炭化水素を用いてすすいだ被洗浄物を、環状フッ化炭化水素または有機溶剤と環状フッ化炭化水素とを含有する第2の洗浄剤と接触させる第3の洗浄工程を有する被洗浄物の洗浄方法。

請求項（抜粋）：

被洗浄物を、添加剤と炭化水素とを含む第1の洗浄剤で洗浄する第1の洗浄工程と、前記洗浄剤が付着した被洗浄物を、炭化水素を用いてすすぐ第2の洗浄工程と、および、前記炭化水素を用いてすすいだ被洗浄物を、環状フッ化炭化水素または有機溶剤と環状フッ化炭化水素を含有する第2の洗浄剤と接触させる第3の洗浄工程を有する、被洗浄物の洗浄方法。

IPC (7件)：

B08B 3/08 ,  B08B 3/10 ,  C11D 7/24 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/30 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/50

FI (7件)：

B08B 3/08 Z ,  B08B 3/10 Z ,  C11D 7/24 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/30 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/50

Fターム (23件)：

3B201AA46 ,  3B201AB01 ,  3B201AB38 ,  3B201BB04 ,  3B201BB05 ,  3B201BB13 ,  3B201BB82 ,  3B201BB94 ,  3B201BB95 ,  3B201CC01 ,  3B201CC21 ,  3B201CD22 ,  4H003BA12 ,  4H003DA05 ,  4H003DA12 ,  4H003DA14 ,  4H003DA15 ,  4H003DA16 ,  4H003DC04 ,  4H003ED04 ,  4H003ED26 ,  4H003ED29 ,  4H003FA45

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 弗素化炭化水素並びに洗浄剤と洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-127591   出願人：日本ゼオン株式会社
• 半導体装置の製造方法及び製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-272107   出願人：セイコーエプソン株式会社