特許
J-GLOBAL ID：200903054952345042

垂直磁気記録媒体及びその製造方法

発明者：
渡辺 貞幸

渡辺 貞幸 について

, 
酒井 泰志

酒井 泰志 について


出願人/特許権者：
富士電機ホールディングス株式会社

富士電機ホールディングス株式会社 について


代理人 (3件)： 谷 義一 ,  阿部 和夫 ,  橋本 傳一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-179085
公開番号（公開出願番号）：特開2004-022138
出願日： 2002年06月19日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：
【課題】下地層の膜厚を薄くしても良好な磁気特性が得るようにし、磁気ヘッドと軟磁性層間の距離を小さくし、より急峻なヘッド磁界で記録すること。【解決手段】非磁性基体1上に少なくとも、下地層2と磁気記録層3と及び保護膜4が順に形成された構造を有しており、さらにその上に液体潤滑材層5が形成されている。磁気記録層3は、強磁性を有する結晶粒とそれを取り巻く酸化物或いは窒化物の非磁性結晶粒界からなり、かつ下地層の形成時のガス圧を変化させ、表面層部分を初期層部分よりも高ガス圧で形成した。下地層2の形成方法としては、初期層部分は低ガス圧で成膜し、表面層は初期層部分よりも高ガス圧で成膜する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
非磁性基体上に少なくとも下地層と磁気記録層と保護膜及び液体潤滑材層が順次積層されてなる垂直磁気記録媒体の製造方法において、前記磁気記録層は、強磁性を有する結晶粒とそれを取り巻く酸化物或いは窒化物の非磁性結晶粒界からなり、かつ前記下地層の形成時のガス圧を変化させ、表面層部分を初期層部分よりも高ガス圧で形成することを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
IPC (5件)：
G11B5/84 ,  G11B5/65 ,  G11B5/667 ,  G11B5/738 ,  H01F10/16
FI (5件)：
G11B5/84 Z ,  G11B5/65 ,  G11B5/667 ,  G11B5/738 ,  H01F10/16
Fターム (29件)：
5D006BB01 ,  5D006BB07 ,  5D006CA01 ,  5D006CA03 ,  5D006CA06 ,  5D006DA03 ,  5D006DA08 ,  5D006EA03 ,  5D006FA09 ,  5D112AA03 ,  5D112AA04 ,  5D112AA05 ,  5D112AA11 ,  5D112AA24 ,  5D112BB01 ,  5D112BB06 ,  5D112BD03 ,  5D112BD05 ,  5D112FA04 ,  5D112FB08 ,  5D112FB20 ,  5E049AA04 ,  5E049AA07 ,  5E049AC05 ,  5E049BA06 ,  5E049CB02 ,  5E049DB02 ,  5E049DB12 ,  5E049GC02
引用特許：
審査官引用 (4件)
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