特許
J-GLOBAL ID：200903054957487856

光防御化粧品組成物およびポリマー並びにこれらの使用方法

発明者：
ジャン-マルク・アスション

ジャン-マルク・アスション について

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デルフィン・アラール

デルフィン・アラール について

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イザベル・アンセン

イザベル・アンセン について


出願人/特許権者：
ロレアル

ロレアル について


代理人 (1件)： 志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-133074
公開番号（公開出願番号）：特開平7-330567
出願日： 1995年05月31日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：
【要約】【目的】 光防御力が改良された抗日光化粧品組成物を提供する。【構成】 連続相を水相とする化粧品に許容されるビヒクル中に、紫外線を遮蔽し得る光防御システムと、少なくとも一つの以下の(i)式(I)の単位、および(ii)式(II)および/または式(III)の単位【化1】【化2】【化3】の繰り返しからなるポリマー類から選択されることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
連続相を水相とする化粧品に許容されるビヒクル中に、紫外線を遮蔽し得る光防御システムと少なくとも一つのポリマーとを含有する、皮膚および/または髪の光防御等のための局所使用用化粧品組成物において、前記ポリマーが、以下の(i)式(I)の単位、および(ii)式(II)および/または式(III)の単位【化1】【化2】【化3】[式中、aは0または1に等しい整数、R1、R2、R3およびR4は、同一であっても異なっていてもよく、水素原子またはC1-C4のアルキル基を示し、R5はCH3CO-基もしくはR6-(OC2H5)b-基(式中、R6はC2-C20のアルキル基、かつbは1〜20の整数(1、20を含む)である)を示し、前記ポリマーが式(II)の単位を欠く場合は、R2およびR4基は同時に水素原子を示すことができない]の繰り返しからなるポリマー類から選択されることを特徴とする化粧品組成物。
IPC (19件)：
A61K 7/42 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/032 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/11 ,  C08F216/16 MKY ,  C08F218/08 MLH ,  C08F218/12 MLK ,  C08K 3/22 ,  C08K 5/00 ,  C08L 29/10 LGZ ,  C08L 31/02 LHB ,  C08L 33/06 LHU ,  C08L 33/06 LHV ,  C09K 3/00 104 ,  C07D235/18 ,  C07D251/70
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 特開昭54-041337
  • メイクアツプ化粧料
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-179908   出願人：ポーラ化成工業株式会社
  • 特開昭53-094041

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