特許

J-GLOBAL ID：200903054961670053

殺菌洗浄水の製造方法およびその装置

発明者： 中村 信一 ,  福塚 邦彦 ,  藤井 裕美
出願人/特許権者： 株式会社テー・アール・ピー
代理人 (1件)： 重信 和男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-192476
公開番号（公開出願番号）：特開平11-347557
出願日： 1998年06月22日
公開日（公表日）： 1999年12月21日
要約：

【要約】【課題】 高い耐性力を有する芽胞を形成する菌をも殺菌可能とすることができる高い殺菌能力を有する殺菌洗浄水の製造方法およびその装置を提供する。【解決手段】 用水にハロゲン化塩電解質を添加してその電気伝導度を向上させ、この用水を陽極板と陰極板とを用いて電気分解を行い、次亜ハロゲン酸を生成させた殺菌洗浄水とする殺菌洗浄水の製造方法において、前記電解質によって供給される臭素イオンと塩素イオンとのモル比率が、57:43の比率点およびその近傍とする。

請求項（抜粋）：

用水にハロゲン化塩電解質を添加してその電気伝導度を向上させ、この用水を陽極板と陰極板とを用いて電気分解を行い、次亜ハロゲン酸を生成させた殺菌洗浄水とする殺菌洗浄水の製造方法において、前記電解質によって供給される臭素イオンと塩素イオンとのモル比率が、57:43の比率点およびその近傍とされていることを特徴とする殺菌洗浄水の製造方法。

IPC (6件)：

C02F 1/46 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/76

FI (6件)：

C02F 1/46 Z ,  C02F 1/50 531 P ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 550 D ,  C02F 1/50 560 F ,  C02F 1/76 A