特許

J-GLOBAL ID：200903054965256154

ダイクロイックミラー、ダイクロイックミラーを製造するための方法、リソグラフィ装置、半導体デバイス、およびそれらのための製造方法

発明者： ヴァン エンペル,ジャーコ,アドリアーン,ルドルフ
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-105822
公開番号（公開出願番号）：特開2009-272622
出願日： 2009年04月24日
公開日（公表日）： 2009年11月19日
要約：

【課題】ウェーハに向かう光路から赤外放射を除去するように構成されたダイクロイックミラーを提供する。【解決手段】上限を有する第1の波長範囲内の第1のタイプの放射を、第1の波長の上限より大きい下限を有する第2の波長範囲内の第2のタイプの放射から分離するように構成されたダイクロイックミラー。このミラーは、基板と、基板と反対の方向を向く反射表面、および基板に向かう方向で階段状に増大する幅を有する少なくとも1つの積層体とを含む。この積層体は、基板上において、第1の材料と第2の材料の交互する層によって形成される。反射表面は、第1の波長の上限より大きく第2の波長の下限より小さい幅を有するステップを有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

上限を有する第1の波長範囲内の第1のタイプの放射を、前記第1の波長の前記上限より大きい下限を有する第2の波長範囲内の第2のタイプの放射から分離するように構成されたダイクロイックミラーであって、 基板と、 前記基板と反対の方向を向く反射表面、および前記基板に向かう方向で階段状に増大する幅を有する少なくとも1つの積層体と を備え、 前記積層体が、前記基板上において、第1の材料と第2の材料の交互する層によって形成され、 前記反射表面が、前記第1の波長の前記上限より大きく前記第2の波長の前記下限より小さい幅を有するステップを有する、ダイクロイックミラー。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (2件)：

H01L21/30 515D ,  H01L21/30 531A

Fターム (3件)：

5F046CB02 ,  5F046GB01 ,  5F046GB07