特許
J-GLOBAL ID：200903054987847059
処理方法と処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
萩原 康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-018680
公開番号（公開出願番号）：特開平8-078321
出願日： 1995年01月10日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：
【要約】【目的】 現像液の濃度に影響を与えずにレジスト膜の表面に親水性を付与できる手段を提供する。【構成】 被処理体Wに塗布されたレジスト膜Aの表面に、現像処理を行う前において、中性の物質からなる親水性膜Bを形成する。そして、現像液の接触角が50 ゚以下となる条件下で現像液を供給して現像処理を行う。
請求項（抜粋）：
被処理体に塗布されたレジスト膜の表面に、現像処理を行う前において、中性の物質からなる親水性膜を形成してなる処理方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/30
, G03F 7/38
