特許
J-GLOBAL ID：200903054990187140
フォトレジストパターン作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梅田 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-162331
公開番号（公開出願番号）：特開平8-029608
出願日： 1994年07月14日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：
【要約】【目的】 二光束干渉露光法で得られたフォトレジストパターンの線幅を変更し、これを用いることによりデューティの制御された回折格子を作製する。【構成】 露光・現像後のフォトレジストパターンを耐熱温度以上の高温でベークすることにより軟化させ、線幅の変更を行う。そして、線幅の変更されたレジストパターンをマスクとし、エッチングにより回折格子を作製する。
請求項（抜粋）：
回折格子作製用フォトレジストのパターニング工程は、二光束干渉法による露光および現像操作によってレジストパターンを得る工程と、該レジストパターンの線幅を変更する工程とで構成されることを特徴とするフォトレジストパターン作製方法。
IPC (3件)：
G02B 5/18
, G03F 7/20
, G03F 7/40
