特許

J-GLOBAL ID：200903054990790220

活性汚泥法および活性汚泥装置

発明者： 内野 和博 ,  安井 孝行
出願人/特許権者： 川崎製鉄株式会社
代理人 (1件)： 小林 英一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-161466
公開番号（公開出願番号）：特開平10-005762
出願日： 1996年06月21日
公開日（公表日）： 1998年01月13日
要約：

【要約】【課題】 膜モジュールへの高分子物質などの付着・堆積による膜透過水量の経時的減少を抑制することが可能で、さらには、汚泥発生量の少ない膜分離活性汚泥法および装置の提供。【解決手段】 有機性物質を含む原排水の処理に用いられる活性汚泥法および活性汚泥装置であって、曝気槽内で生成される汚泥状反応物質を含む混合溶液をオゾン処理すると共に、オゾン処理された前記混合溶液を膜分離装置により固液分離して処理水を得る活性汚泥法、および、活性汚泥装置が、曝気槽と、曝気槽内で生成される汚泥状反応物質を含む混合溶液をオゾン処理するためのオゾン処理装置と、曝気槽の前記混合溶液の固液分離手段である膜分離装置と、曝気槽の前記混合溶液を曝気槽とオゾン処理装置との間で循環する循環手段を有する活性汚泥装置。

請求項（抜粋）：

有機性物質を含む原排水の処理に用いられる活性汚泥法であって、曝気槽内で生成される汚泥状反応物質を含む混合溶液をオゾン処理すると共に、オゾン処理された前記混合溶液を膜分離装置により固液分離して処理水を得ることを特徴とする活性汚泥法。

IPC (4件)：

C02F 1/44 ZAB ,  B01D 65/02 520 ,  C02F 1/78 ZAB ,  C02F 3/20

FI (4件)：

C02F 1/44 ZAB F ,  B01D 65/02 520 ,  C02F 1/78 ZAB ,  C02F 3/20 D