特許
J-GLOBAL ID：200903054995994265
試料検査装置及び試料検査方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-033347
公開番号（公開出願番号）：特開平10-221033
出願日： 1997年01月31日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：
【要約】【課題】 位相シフト干渉法において、多重干渉を処理することで、試料表面形状の測定解析を表面反射率に限定されずに行う。【解決手段】 高精度に平面研磨された基準平面を有し試料を吸着する試料保持手段と、試料吸着時には試料に干渉縞を形成する干渉縞形成手段と、参照光の位相を変化させるために参照平面と試料の測定面の光学的距離を少なくても7段階変化させる位相変化手段と、形成された干渉縞の各画像を取り込む画像取得手段と、取り込んだ画像から解析領域を決定する解析領域決定手段と、取り込んだ画像から2次及び3次干渉成分をキャンセルし試料測定面の形状を解析する画像解析手段と、該画像解析手段による解析結果を表示する表示手段を有し、多重干渉を処理することで、反射率に関係なく試料の表面形状を高精度に測定評価する。
請求項（抜粋）：
試料の形状を測定解析する試料検査装置において、高精度に平面研磨された基準平面を有し前記試料を吸着する試料保持手段と、吸着された試料に干渉縞を形成する干渉縞形成手段と、参照光の位相を変化させるために参照平面と試料の測定面の光学的距離を少なくとも7段階変化させる位相変化手段と、形成された干渉縞の各画像を取り込む画像取得手段と、取り込んだ画像から解析領域を決定する解析領域決定手段と、取り込んだ画像から2次及び3次干渉成分をキャンセルし試料測定面の形状を解析する画像解析手段と、該画像解析手段による解析結果を表示する表示手段と、を有することを特徴とする試料検査装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01B 11/24 D
, G06F 15/62 380
