特許
J-GLOBAL ID:200903055000442350

液晶セル製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-113044
公開番号(公開出願番号):特開平11-305214
出願日: 1998年04月23日
公開日(公表日): 1999年11月05日
要約:
【要約】【課題】 基板に反りや歪みが存在しても、精密な切り込み量の制御を必要とせず、しかも切断時に発塵の少ない樹脂製基板液晶セルの切断方法を提供する。【解決手段】 透明な樹脂製基板を用いた液晶セル製造工程であって、パターン形成工程で基板に画素パターンを形成すると同時に基板の切断線12沿いに所定の幅の金属薄膜線11を形成し、配向処理工程で配向処理を施して液晶基板を製造し、基板重ね合わせ工程で液晶基板を重ね合わせて接着した後、基板を切断して1個または複数個の液晶セルを製造する切断方法であって、液晶セルを、あらかじめ形成しておいた金属薄膜線11に沿って炭酸ガスレーザにより切断する。
請求項(抜粋):
透明な樹脂製基板を用いた液晶セル製造工程であって、パターン形成工程で基板に画素パターンを形成し、基板の切断線沿いに所定の幅の金属薄膜線を形成し、配向処理工程で配向処理を施して液晶基板を製造し、基板重ね合わせ工程で液晶基板を重ね合わせて接着した後、基板を切断して1個または複数個の液晶セルを製造する切断方法であって、液晶セルをあらかじめ形成しておいた金属薄膜線に沿ってレーザにより切断することを特徴とする液晶セル製造方法。
IPC (3件):
G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/13 101 ,  C03B 33/02
FI (3件):
G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/13 101 ,  C03B 33/02

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