特許

J-GLOBAL ID：200903055007908070

ポジ型レジスト組成物

発明者： 河田 正司 ,  林 敦 ,  林 宏
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
代理人 (1件)： 西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-305938
公開番号（公開出願番号）：特開平7-134405
出願日： 1993年11月11日
公開日（公表日）： 1995年05月23日
要約：

【要約】【目的】 感度、残膜率、解像度などの諸特性のバランスに優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【構成】 アルカリ可溶性フェノール樹脂(a)と感光剤(b)を含有するポジ型レジスト組成物において、該感光剤として下記一般式〔I〕で示されるポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(R1〜R6:互いに同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、またはアルコキシ基である。)

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性フェノール樹脂(a)と感光剤(b)を含有するポジ型レジスト組成物において、該感光剤として下記一般式〔I〕で示されるポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(R1〜R6:互いに同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、またはアルコキシ基である。)

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027