特許
J-GLOBAL ID：200903055008263650
形状測定装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-168825
公開番号（公開出願番号）：特開平6-011323
出願日： 1992年06月26日
公開日（公表日）： 1994年01月21日
要約：
【要約】【目的】干渉を利用した形状測定装置において、被検面、面形状を測定するための予定測定位置への正確な位置決めを可能とすることにより、被検面の形状を高精度に測定することを目的とする。【構成】被検面(9)の設計形状に対応した形状測定用波面とは別に、予定測定位置に集光する波面を発生させるアライメント用パターン(4A)を備え、このアライメント用パターンにより発生させられた波面の被検面からの反射光を用いて、アライメント観察光学系(8)が予定測定位置と被検面との位置ズレ量を測定する。
請求項（抜粋）：
光源から射出された光を分割して、一方を参照面に、他方を被検物の被検面に導き、参照面からの反射光と被検面からの反射光との相互干渉による干渉縞の像を観察することにより被検面の面形状を測定する形状測定装置において、被検面の設計形状に対応した第1の波面を発生させる第1波面発生手段と、被検面の面形状を測定するための予定測定位置に集光する第2の波面を発生させる第2波面発生手段と、被検面からの第2の波面の反射光を用いて、前記予定測定位置と被検面との位置ズレ量を検出する検出手段と、検出手段で検出された位置ズレ量が補正された状態で、参照面からの反射光と被検面からの第1の波面の反射光とを相互干渉させることにより被検面の形状を測定する測定手段と、を備えたことを特徴とする形状測定装置。
IPC (3件)：
G01B 11/24
, G01B 9/02
, G01M 11/00
