メイクアップ用化粧料

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-335682
公開番号（公開出願番号）：特開2001-240514
出願日： 2000年11月02日
公開日（公表日）： 2001年09月04日
要約：

【要約】【課題】特定のオルガノポリシロキサンを含有し、良好な使用性と、経時的な化粧膜がきれいなメイクアップ用化粧料を提供すること。【解決手段】下記の一般式(1)で示されるオルガノポリシロキサンR<SP>1</SP><SB>m</SB>R<SP>2</SP><SB>n</SB>SiO<SB>(4-m-n)/2</SB>・・・(1)[式中、R<SP>1</SP>は炭素数1〜20の置換もしくは非置換の1価炭化水素基又は-OR<SP>3</SP>(但し、R<SP>3</SP>は水素原子又は炭素数1〜8の置換もしくは非置換の1価炭化水素基である。)で示される基、R<SP>2</SP>はR<SP>1</SP>と同様の基又は下記式(但し、xは3〜8の整数、yは3〜5である。)で表される基を示すが、R<SP>2</SP>の少なくとも一つは式(2)で表される基である。また、m、nは0<m<3、0<n<3、1.8≦m+n≦2.2を満足する正数である。]を0.01〜50質量%含有するメイクアップ用化粧料。

請求項（抜粋）：

次の成分(A)(A)下記の一般式(1)で示されるオルガノポリシロキサンR<SP>1</SP><SB>m</SB>R<SP>2</SP><SB>n</SB>SiO<SB>(4-m-n)/2</SB>・・・(1)[式中、R<SP>1</SP>は炭素数1〜20の置換もしくは非置換の1価炭化水素基又は-OR<SP>3</SP>(但し、R<SP>3</SP>は水素原子又は炭素数1〜8の置換もしくは非置換の1価炭化水素基である。)で示される基、R<SP>2</SP>はR<SP>1</SP>と同様の基又は下記式(但し、xは3〜8の整数、yは3〜5である。)で表される基を示すが、R<SP>2</SP>の少なくとも一つは式(2)で表される基である。また、m、nは0<m<3、0<n<3、1.8≦m+n≦2.2を満足する正数である。]を0.01〜50質量%含有することを特徴とするメイクアップ用化粧料。

IPC (4件)：

A61K 7/02 , A61K 7/021 , A61K 7/027 , A61K 7/032

FI (4件)：

A61K 7/02 Z , A61K 7/021 , A61K 7/027 , A61K 7/032

Fターム (42件)：

4C083AA082 , 4C083AA122 , 4C083AB172 , 4C083AB232 , 4C083AB242 , 4C083AB432 , 4C083AC012 , 4C083AC022 , 4C083AC072 , 4C083AC092 , 4C083AC122 , 4C083AC242 , 4C083AC342 , 4C083AC352 , 4C083AC372 , 4C083AC392 , 4C083AC422 , 4C083AC442 , 4C083AC542 , 4C083AC792 , 4C083AC852 , 4C083AC862 , 4C083AD072 , 4C083AD092 , 4C083AD152 , 4C083AD161 , 4C083AD162 , 4C083AD242 , 4C083AD492 , 4C083AD532 , 4C083AD662 , 4C083CC11 , 4C083CC12 , 4C083CC13 , 4C083CC14 , 4C083DD11 , 4C083DD17 , 4C083DD21 , 4C083DD23 , 4C083EE06 , 4C083EE07 , 4C083FF05

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