凹版オフセット印刷方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：亀井弘勝 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-151536
公開番号（公開出願番号）：特開平11-342680
出願日： 1998年06月01日
公開日（公表日）： 1999年12月14日
要約：

【要約】【課題】凹版からブランケットから被印刷物への工程でインキの完全転移を耐刷性をもって実現し、印刷形状が良好な微細パターンを形成し得る、凹版オフセット印刷方法を提供することである。【解決手段】凹版の凹部表面に、シリコーンゴムを用いて離型層を形成し、その離型層が形成された凹部に、顔料(A)と樹脂(B)とを含むインキを充填した後、そのインキをブランケットの表面に転移させ、しかるのちその転移したインキを被印刷物の表面に転写させる凹版オフセット印刷方法であって、前記シリコーンゴムとして付加型シリコーンゴム等を使用し、離型層の厚みを0.5μm〜4.0μmの範囲にすると共に、前記インキとして顔料(A)と樹脂(B)とを、体積比(A)/(B)=1.0〜6.0の範囲になるように配合したものを使用する凹版オフセット印刷方法。

請求項（抜粋）：

パターン形成する凹部を設けた凹版の少なくとも凹部表面に、シリコーンゴムを用いて離型層を形成し、その離型層が形成された凹部に、顔料(A)と樹脂(B)とを含むインキを充填した後、そのインキをブランケットの表面に転移させ、しかるのちその転移したインキを被印刷物の表面に転写させる凹版オフセット印刷方法であって、前記シリコーンゴムとして付加型シリコーンゴムまたは紫外線硬化型シリコーンゴムを使用し、離型層の厚みを0.5μm〜4.0μmの範囲にすると共に、前記インキとして顔料(A)と樹脂(B)とを、体積比(A)/(B)=1.0〜6.0の範囲になるように配合したものを使用することを特徴とする凹版オフセット印刷方法。

IPC (3件)：

B41N 1/06 , B41M 1/10 , H05K 3/12 610

FI (3件)：

B41N 1/06 , B41M 1/10 , H05K 3/12 610 A

前のページに戻る