特許

J-GLOBAL ID：200903055028341576

電子線描画装置およびその調整方法

発明者： 染田 恭宏 ,  斉藤 徳郎 ,  早田 康成 ,  後藤 泰子
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 磯村 雅俊
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-002443
公開番号（公開出願番号）：特開平8-191042
出願日： 1995年01月11日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：

【要約】【目的】 鏡筒の調整の高速化,高精度化を可能とする電子線描画装置およびその調整方法を提供すること、マルチカラムを有する電子線描画装置における均一露光を実現すること、および、装置を小型化すること。【構成】 複数本の電子銃および電子線鏡筒を有し、前記各鏡筒が独立に光学系の調整を可能に構成された電子線描画装置であって、前記複数本の鏡筒の調整を同時に行う手段を有することを特徴とする電子線描画装置、該装置において、複数本の鏡筒毎に異なる電子照射時間を設定可能としたことを特徴とする電子線描画装置、および、描画時に前記マーク群を有する基板が退避するための、描画が行われるチャンバに隣接したサブチャンバを持つことを特徴とする電子線描画装置、ならびに、これらの装置において、前記複数本の鏡筒の調整を同時に行うことを特徴とする電子線描画装置の調整方法。

請求項（抜粋）：

複数本の電子銃および電子線鏡筒を有し、前記各鏡筒が独立に光学系の調整を可能に構成された電子線描画装置であって、前記複数本の鏡筒の調整を同時に行う手段を有することを特徴とする電子線描画装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504

FI (4件)：

H01L 21/30 541 W ,  H01L 21/30 541 A ,  H01L 21/30 541 V ,  H01L 21/30 541 K

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 電子ビーム装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-251233   出願人：富士通株式会社