特許
J-GLOBAL ID：200903055038587093
吸着プレート及び真空吸引装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
足立 勉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-361034
公開番号（公開出願番号）：特開2001-176957
出願日： 1999年12月20日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：
【要約】【課題】 吸着プレートにてシリコンウエハ等の被加工物を吸着した場合でも、被加工物を傷つけることのない吸着プレート及び真空吸引装置を提供すること。【解決手段】 吸着プレート17は、シリコンウエハ3を吸引して保持する吸着面K側に、吸着面Kの周囲を囲むようにシールするシール部23を備えるとともに、シール部23の内側の吸着面K上に、吸着時の平面度を保持する複数の突起部21を備える。この突起部21の直径は0.15〜0.5mmであり、且つ突起部21の頂上部25の角部27に、0.01〜0.05mmの面取り部29を備える。更に、シール部23の高さに対して、吸着面K中心近傍に位置する突起部21の頂上部25の高さが、0.1〜2μm低くなっている。
請求項（抜粋）：
真空吸引装置本体の吸引口側に装着され、被加工物を吸引して保持するセラミックス製の吸着プレートにおいて、前記吸着プレートは、前記被加工物を吸引して保持する吸着面側に、該吸着面の周囲を囲むようにシールするシール部を備えるとともに、該シール部の内側の吸着面上に、複数の突起部を備え、更に、前記突起部の直径が0.15〜0.5mmであり、且つ該突起部の頂上部の角部に、0.01〜0.05mmの面取り部を備えたことを特徴とする吸着プレート。
IPC (3件)：
H01L 21/68
, B24B 37/04
, H01L 21/304 622
H01L 21/68 P
, B24B 37/04 H
, H01L 21/304 622 H
3C058AA07
, 3C058AB04
, 3C058BC01
, 3C058CB01
, 3C058CB03
, 3C058DA17
, 5F031CA02
, 5F031CA05
, 5F031HA02
, 5F031HA03
, 5F031HA08
, 5F031HA13
, 5F031MA22
, 5F031PA20
