特許

J-GLOBAL ID：200903055043522404

半導体製造装置

発明者： 森口 安規
出願人/特許権者： 関西日本電気株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-068689
公開番号（公開出願番号）：特開2003-273188
出願日： 2002年03月13日
公開日（公表日）： 2003年09月26日
要約：

【要約】【課題】 本発明の目的は、カセットチャンバのベント作業に際して、装置のインデックスを低下させることなく、かつ、パーティクルの舞い上がりを防止するカセットチャンバを備えた半導体製造装置を提供することである。【解決手段】 半導体基板6を収納するカセット7を格納して、半導体基板6に各種プロセス処理を施す処理チャンバ4との間で搬出入可能とし、かつ、内部圧力をガスの給排気により常圧または減圧状態に変化させるカセットチャンバ102を備えたCVD装置において、カセットチャンバ102内に静電力によりパーティクル16を吸着するパーティクル吸着部103を具備したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

半導体基板を収納するカセットを格納して、前記半導体基板に各種プロセス処理を施す処理チャンバとの間で搬出入可能とし、かつ、内部圧力をガスの給排気により常圧または減圧状態に変化させるカセットチャンバを備えた半導体製造装置において、前記カセットチャンバ内に静電力によりパーティクルを吸着するパーティクル吸着部を具備したことを特徴とする半導体製造装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B65G 49/00 ,  H01L 21/02

FI (3件)：

H01L 21/68 A ,  B65G 49/00 A ,  H01L 21/02 D

Fターム (11件)：

5F031CA02 ,  5F031DA17 ,  5F031FA01 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031MA04 ,  5F031MA28 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031NA09 ,  5F031NA14