特許
J-GLOBAL ID：200903055048791365
酸化ルテニウムの成膜方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-068877
公開番号（公開出願番号）：特開平6-283438
出願日： 1993年03月26日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：
【要約】【目的】 高純度なDPMのRu錯体(Ru(DPM)3)を用いて高特性のRuO2膜を安定して成膜できるCVD法プロセスの提供を目的としている。【構成】 ジピバロイルメタネートルテニウムを原料とし、化学気相析出法により酸化ルテニウムを基材上に成膜することを特徴とする酸化ルテニウムの成膜方法である。【効果】 本発明によれば、酸化物膜の成膜法として好適なCVD法によって、電極などとして優れた特性を有する酸化ルテニウム膜を安定して成膜することが可能である。
請求項（抜粋）：
ジピバロイルメタネートルテニウムを原料とし、化学気相析出法により酸化ルテニウムを基材上に成膜することを特徴とする酸化ルテニウムの成膜方法。
IPC (2件)：
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