特許

J-GLOBAL ID：200903055056816199

ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及び皮膚外用剤

発明者： 吉田 正志 ,  植原 計一
出願人/特許権者： 株式会社資生堂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-319068
公開番号（公開出願番号）：特開平7-145175
出願日： 1993年11月25日
公開日（公表日）： 1995年06月06日
要約：

【要約】【構成】 化学式化1で表されるシリコーン系ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを含有する皮膚外用剤。【化1】【効果】 本発明のシリコーン系ベンゾフェノン誘導体は優れたUV-A,B吸収能を有し、シリコーン系基剤相溶性を有する。

請求項（抜粋）：

下記化学式化1で表されるシリコーン系ベンゾフェノン誘導体。【化1】

IPC (3件)：

C07F 7/08 ,  A61K 7/42 ,  C09K 3/00 104

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平3-217420
  
• 特開平3-041018
  
• 日焼け止め化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-080884   出願人：株式会社資生堂