特許
J-GLOBAL ID：200903055063001907
薄膜形成装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-206636
公開番号（公開出願番号）：特開平5-051746
出願日： 1991年08月19日
公開日（公表日）： 1993年03月02日
要約：
【要約】【目的】 薄膜の膜厚を均一に基板上に形成することのできる薄膜形成装置を提供することを目的とする。【構成】 真空容器内へ導入された反応ガスを混合する案内板の基板側出口に、基板と同心円である内側開口部12aとその外側に同心円環状の複数の外側開口部12bを有する遮蔽板12を設ける。基板を回転しながら、反応ガスを基板上に遮蔽板を介して供給すると、基板上に均一な反応ガス濃度分布を形成し、均一な膜厚分布を基板上に形成することができる。
請求項（抜粋）：
マイクロ波放電により励起された酸素原子と原料ガスを用いた薄膜形成装置において、これらの反応ガスを基板に輸送する案内板に、基板と同心円状の複数の穴を有する構造の遮蔽板を設けたことを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (3件)：
C23C 16/44
, H01L 21/31
, H01L 21/205
