特許

J-GLOBAL ID：200903055083094162

反応性基を有するポリスチレンの製造方法

発明者： 東村 敏延 ,  澤本 光男 ,  上垣外 正己 ,  宮下 和晃
出願人/特許権者： 東村 敏延
代理人 (1件)： 幸田 全弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-332178
公開番号（公開出願番号）：特開平6-157627
出願日： 1992年11月19日
公開日（公表日）： 1994年06月07日
要約：

【要約】【目的】 スチレンのリビングカチオン重合で、片末端に反応性基を有する分子量分布の狭いポリスチレンを容易に得る。【構成】 重合開始剤として、特定の有機ハロゲン化合物と、ルイス酸性を有するハロゲン化金属とからなる重合開始剤を用い、第4級アンモニウム塩の存在下でスチレンをリビングカチオン重合する。

請求項（抜粋）：

4級アンモニウム塩の存在下で、下記化1の一般式(式中、Xはハロゲン原子であり、Yは反応性置換基である。)で表される有機ハロゲン化合物とルイス酸性を有するハロゲン化金属とからなる重合開始剤により、スチレンをリビングカチオン重合させることを特徴とする反応性基を有するポリスチレンの製造方法。【化1】CH3 -CHX-O-CH2 CH2 -Y

IPC (2件)：

C08F 4/06 MEH ,  C08F 12/00 MJT