特許

J-GLOBAL ID：200903055098514532

放射線感光材料及びパターン形成方法

発明者： 開元 裕子 ,  小太刀 明子 ,  羽入 勇
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 北野 好人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-174919
公開番号（公開出願番号）：特開平11-024272
出願日： 1997年06月30日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：

【要約】【課題】 KrFレーザやArFレーザを用いたリソグラフィーにおいて、高解像のパターニングが可能なネガ型シリル化プロセスを構築しうる放射線感光材料、及びこの放射線感光材料を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 被加工対象物上に、光照射により酸を生じる光酸発生剤と、一般式【化57】で示される共重合体よりなる放射線感光材料を塗布してフォトレジスト膜を形成する工程と、所定のパターンを露光する工程と、露光したフォトレジスト膜を有する被加工対象物をベーク工程と、シリル化剤に曝し、露光された領域のフォトレジスト膜をシリル化する工程と、シリル化された領域をマスクとしてシリル化されていない領域のフォトレジスト膜を除去する工程とによりレジストパターンを形成する。

請求項（抜粋）：

一般式【化1】で示される共重合体と、放射線照射により酸を生じる光酸発生剤とを有することを特徴とする放射線感光材料。

IPC (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R