特許
J-GLOBAL ID：200903055099300064
エキシマレ-ザ-アニ-ル法及びエキシマレ-ザ-アニ-ル装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松田 正道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-317851
公開番号（公開出願番号）：特開平5-152313
出願日： 1991年12月02日
公開日（公表日）： 1993年06月18日
要約：
【要約】【目的】 半導体薄膜の結晶化等に用いるエキシマレ-ザ-アニ-ル法における安定したレ-ザ-アニ-ル処理の継続を実現すること。【構成】 複数回のレ-ザ-照射を2つ以上のグル-プに分け、設定したエネルギ-(B)に対して、レ-ザ-出力のばらつきの半分程度低エネルギ-の設定エネルギー(A)で最初のグル-プの照射を行ない、その後は本来のエネルギ-設定値(B)で照射を行なう。
請求項（抜粋）：
被照射物に対して、複数回(n回)のエキシマレ-ザ-光を照射する際に、n回の照射を複数個のグル-プに分割し、最初のグル-プのm回(m<n)のレ-ザ-エネルギ-の設定値(A)を、残りのグル-プのレ-ザ-照射エネルギ-の設定値の最大値(B)より小さく設定し、かつそのエネルギ-差(B-A)をレ-ザ-の出力ばらつきの約半分に設定することを特徴とするエキシマレ-ザ-アニ-ル法。
IPC (3件)：
H01L 21/324
, H01L 21/20
, H01L 21/268
