特許

J-GLOBAL ID：200903055119474137

X線発生装置及びX線反射鏡光軸合わせ方法

発明者： 後藤 俊治
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 青木 朗 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-027658
公開番号（公開出願番号）：特開平5-226228
出願日： 1992年02月14日
公開日（公表日）： 1993年09月03日
要約：

【要約】【目的】 本発明はX線発生装置及びX線反射鏡光軸合わせ方法に関し、X線反射鏡の光軸合わせを正確に、且つ短時間でできるX線発生装置及びX線反射鏡光軸合わせ方法を実現することを目的とする。【構成】 X線光源10と、X線反射鏡12と、該X線光源10とX線反射鏡12との間に設けられ且つ複数の透過孔16を有する遮蔽板11と、該遮蔽板11の位置を調整する位置調整機構と、前記X線反射鏡12の姿勢を調整することができる6軸制御装置13と、X線光源10からのX線が遮蔽板11の透過孔16を通過した複数ビームの位置を検出するX線検出器14と、X線反射鏡12で反射されたビームの最適位置を計算するマイクロプロセッサ15とを具備して成るように構成する。

請求項（抜粋）：

X線光源(10)と、X線反射鏡(12)と、該X線光源(10)とX線反射鏡(12)との間に設けられ且つ複数の透過孔(16)を有する遮蔽板(11)と、該遮蔽板(11)の位置を調整する位置調整機構と、前記X線反射鏡(12)の姿勢を調整することができる6軸制御装置(13)と、X線光源(10)からのX線が遮蔽板(11)の透過孔(16)を通過した複数ビームの位置を検出するX線検出器(14)と、X線反射鏡(12)で反射されたビームの最適位置を計算するマイクロプロセッサ(15)とを具備して成ることを特徴とするX線発生装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  H05G 1/00

FI (2件)：

H01L 21/30 331 A ,  H05G 1/00 G