特許
J-GLOBAL ID：200903055122018460

異方形状シリカゾルの製造方法

発明者：
西田 広泰

西田 広泰 について

, 
若宮 義憲

若宮 義憲 について


出願人/特許権者：
触媒化成工業株式会社

触媒化成工業株式会社 について


代理人 (1件)： 石田 政久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-351260
公開番号（公開出願番号）：特開2007-153672
出願日： 2005年12月05日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：
【課題】 研磨材として好適な異方形状シリカゾルおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 アルカリ滴定法により測定される平均粒子径が3〜25nmの範囲にあるシリカ微粒子が分散した、pHが2〜8の範囲にあるシリカゾルに、該シリカゾルのシリカ固形分100重量部に対して、ポリ金属塩化合物を0.01〜70重量部添加し、50〜160°Cで加熱することにより製造する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
平均粒子径が3〜25nmの範囲にあるシリカ微粒子が分散した、pHが2〜8の範囲にあるシリカゾルに、該シリカゾルのシリカ固形分100重量部に対して、ポリ金属塩化合物を0.01〜70重量部添加し、50〜160°Cで加熱することを特徴とする異方形状シリカゾルの製造方法。
IPC (1件)：
C01B 33/141
FI (1件)：
C01B33/141
Fターム (13件)：
4G072AA25 ,  4G072AA28 ,  4G072BB05 ,  4G072CC01 ,  4G072DD06 ,  4G072DD07 ,  4G072EE01 ,  4G072GG02 ,  4G072HH18 ,  4G072JJ28 ,  4G072JJ30 ,  4G072PP20 ,  4G072UU30
引用特許：
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (1件)

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