特許

J-GLOBAL ID：200903055127508792

光学素子修復方法

発明者： キャスリーン レジーナ アーリー ,  ドナルド ミラン テナント ,  ワレン カズマー ワスキーウィッツ ,  デイヴィッド リー ウィント
出願人/特許権者： アメリカン テレフォン アンド テレグラフ カムパニー
代理人 (1件)： 三俣 弘文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-011279
公開番号（公開出願番号）：特開平6-273605
出願日： 1994年01月05日
公開日（公表日）： 1994年09月30日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 光学素子の反射率を維持しつつその多層被覆を単一工程で除去する。【構成】 光学素子は、主表面を有する基板10と、その主表面上の第1の多層被覆60とからなり、この多層被覆は第1の材料層および少なくとも第2の材料層を複数交互に含む。X線波長にピーク反射率を有する光学素子の修復は、基板から第1多層被覆を除去し、その後、主表面上を被覆するように、第1多層被覆とほぼ同じ組成および構造を有する第2の多層被覆を形成することによりなされる。第1多層被覆の除去は、単一のエッチング溶液中で第1多層被覆の大部分を溶解することにより、単一のエッチングステップで第1多層被覆をほぼ完全に除去することによりなされる。第2多層被覆の形成は、結果として得られる修復された光学素子が、もともと光学素子が示していたピーク反射率の最高値の少なくとも80%のピーク反射率を示すように実行される。

請求項（抜粋）：

X線波長にピーク反射率を有する光学素子の修復方法において、この光学素子は、主表面を有する基板(10)と、その主表面上の第1の多層被覆(60)とからなり、この多層被覆は第1の材料層および少なくとも第2の材料層(20、30)を複数交互に含み、前記方法は、a.基板から第1多層被覆を除去するステップと、b.ステップaの後、主表面上を被覆するように、第1多層被覆とほぼ同じ組成および構造を有する第2の多層被覆を形成するステップとからなり、ステップaは、単一のエッチング溶液中で第1多層被覆の大部分を溶解するとにより、単一のエッチングステップで第1多層被覆をほぼ完全に除去するステップからなり、ステップbは、結果として得られる修復された光学素子が、ステップaの前にその光学素子が示していたピーク反射率の最高値の少なくとも80%のピーク反射率を示すように実行されることを特徴とする、光学素子修復方法。

IPC (2件)：

G02B 5/08 ,  H01L 21/308