欠陥検査方法及びその装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：本庄武男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-192690
公開番号（公開出願番号）：特開2001-021502
出願日： 1999年07月07日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：

【要約】【課題】検査対象物の撮像画像を用いた欠陥検査において検査領域を絞り込むためのマスキング処理を行う場合,従来は検査対象物と同種類の複数の試料から得られた撮像画像の論理積画像をマスク画像とすることにより,位置決め誤差や製品バラツキを吸収させるようにしていたが,これでは欠陥検出のできない不感帯が生じてしまうという問題があった。【解決手段】マスク画像を,実際の欠陥検査処理の中で各検査対象物そのものに基づいて生成する。即ち,検査対象画像Aを2値化し,更に所定量の収縮処理を施したものをその検査対象画像Aに対するマスク画像として用いる。これにより,欠陥見逃しの原因となる不感帯を無くすことが可能で,また,実際に欠陥検査の対象となる検査対象画像そのものに基づいて検査領域が決定されるため,位置決め誤差や製品バラツキによる過検出の問題も生じない。

請求項（抜粋）：

検査対象物の撮像画像と,上記検査対象物の検査領域を定めた所定のマスク画像との論理積演算を行い,得られた検査画像に基づいて上記検査対象物の欠陥を検査する欠陥検査方法において,上記検査対象物の撮像画像を所定の濃度閾値に基づいて2値化する2値化工程と,上記2値化工程で得られた2値化画像,又は上記2値化画像に所定の収縮処理を施して得られた収縮2値化画像に基づいて上記マスク画像を生成するマスク画像生成工程とを具備してなることを特徴とする欠陥検査方法。

IPC (3件)：

G01N 21/956 , G01N 21/88 , G06T 7/00

FI (4件)：

G01N 21/956 B , G01N 21/88 J , G06F 15/62 405 A , G06F 15/70 330 E

Fターム (36件)：

2G051AA65 , 2G051AB02 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051EA11 , 2G051EA23 , 2G051EA30 , 2G051EB01 , 2G051EB09 , 2G051ED01 , 2G051ED15 , 5B057AA03 , 5B057BA02 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CC03 , 5B057DA03 , 5B057DB02 , 5B057DB09 , 5L096AA06 , 5L096BA03 , 5L096CA02 , 5L096DA01 , 5L096EA02 , 5L096EA03 , 5L096EA13 , 5L096EA14 , 5L096EA37 , 5L096EA43 , 5L096FA19 , 5L096FA59 , 5L096GA10 , 5L096GA22 , 5L096GA23 , 5L096GA51

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開平3-012783
特開昭62-156547

審査官引用 (2件)

特開平3-012783
特開昭62-156547

前のページに戻る