プラズマ処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-331558
公開番号（公開出願番号）：特開平8-167595
出願日： 1994年12月09日
公開日（公表日）： 1996年06月25日
要約：

【要約】【目的】載置台近傍における異常放電を抑制することができるプラズマ処理装置を提供することにある。【構成】気密に構成された処理容器2内に設けられた静電チャック機構を備えた載置台4と、この載置台4の静電チャック機構に被処理体Wを載置するとともに保持し、前記処理容器2内にプラズマを生起させ、被処理体Wを処理するプラズマ処理装置であって、前記載置台4は、前記静電チャック機構との当接面43の周縁部に絶縁部41を有することを特徴とするプラズマ処理装置。

請求項（抜粋）：

気密に構成された処理容器内に設けられた載置台と、この載置台に設けられ被処理体を保持する静電チャック機構とを具備し、前記処理容器内にプラズマを生起させ、前記被処理体を処理するプラズマ処理装置であって、前記載置台は、前記静電チャック機構との当接面の周縁部に絶縁部を設けたことを特徴とする処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 , H01L 21/205 , H01L 21/31 , H01L 21/68

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平2-007520
静電チャック
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-015971 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開平4-367247

前のページに戻る