特許

J-GLOBAL ID：200903055168469297

プラズマ溶射装置

発明者： 上田 泰稔 ,  桑田 雅泰
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 木村 正巳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-262981
公開番号（公開出願番号）：特開平7-090532
出願日： 1993年09月27日
公開日（公表日）： 1995年04月04日
要約：

【要約】【目的】 溶射膜の気孔率を小さくできると共に、溶射膜の基材との付着力を高めることができ、かつ小型化が可能なプラズマ溶射装置を提供すること。【構成】 陰極3を溶射材で形成し、パルス電源11によって陽極3と陰極2との間に流れるパルス状のアーク放電電流5により、作動ガス6及び陰極3を共に電離、プラズマ化して被溶射体7に高速で溶射し、作動ガス及び陰極材料を組成とする膜8を形成するようにしたもの。

請求項（抜粋）：

プラズマ溶射装置において、陰極を溶射材で形成し、パルス電源によって陽極と陰極との間に流れるパルス状のアーク放電電流により、作動ガス及び陰極を共に電離、プラズマ化して被溶射体に高速で溶射し、作動ガス及び陰極材料を組成とする膜を形成するようにしたことを特徴とするプラズマ溶射装置。