特許
J-GLOBAL ID：200903055174807048
赤外線吸収コードパターン形成用インキ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塩澤 寿夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-304963
公開番号（公開出願番号）：特開平6-128519
出願日： 1992年10月16日
公開日（公表日）： 1994年05月10日
要約：
【要約】【目的】 赤外領域にのみ吸収特性を有し、可視光領域では吸収を行わない新たな顔料を用いた、好みの色を有するコードパターンを形成できるインキの提供。【構成】 Yb3+を、例えば5〜60重量%含有するガラス粉末及び着色顔料を含有することを特徴とする赤外線吸収コードパターン形成用インキ。上記ガラス粉末は、平均粒子径が例えば0.01〜20μmである。このガラス粉末は、約970nmに鋭い吸収を示すことから、上記インキを用いて形成したコードパターンは、赤外線を照射することにより、吸収シグナルとして識別できる。さらに上記インキは所望の色の着色顔料を含むことができることから、自由な色彩のコードパターンを形成することができる。
請求項（抜粋）：
Yb3+を含有する赤外線吸収ガラス粉末及び着色顔料を含有することを特徴とする赤外線吸収コードパターン形成用インキ。
IPC (2件)：
C09D 11/10 PTG
, C09D 11/10 PSX
