特許

J-GLOBAL ID：200903055185478046

フェノ-ル性水酸基を有する高分子化合物及びその製造法

発明者： 福重 裕一 ,  里村 正人
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-032033
公開番号（公開出願番号）：特開平5-230140
出願日： 1992年02月19日
公開日（公表日）： 1993年09月07日
要約：

【要約】【目的】 基板上にパタ-ンを形成する材料として有用な、フェノ-ル性水酸基を有する高分子化合物、及びその製造法を提供する。【構成】 下記一般式(I)で示される繰り返し単位を有する高分子化合物,一般式(I)【化1】〔式中、Xは水素原子,ハロゲン原子,アルキル基,アルコキシ基,もしくはアリ-ル基を,Yは-SO2 -,-NHCO-,-O-,もしくは-CO-を,Zは-O-,もしくは-NH-を表す。R1 は2価の基を,R2 は水素原子,もしくはアルキル基を表す。〕及び,一般式(I)で示される高分子化合物が下記一般式(II)で示されるカルボン酸を含有する共重合体であること及び,その製造法。【化2】〔式中,X,Y,Z,R1 ,R2 は一般式(I)に示したものと同様。Pはその他の共重合可能な成分から誘導される残基。l,m,nは共重合比率を表し,l+m+n=100で,l≠0である。〕

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で示される繰り返し単位を有することを特徴とするフェノ-ル性水酸基を有する高分子化合物。一般式(I)【化1】〔式中、Xは水素原子,ハロゲン原子,アルキル基,アルコキシ基,もしくはアリ-ル基を,Yは-SO2 -,-NHCO-,-O-,もしくは-CO-を,Zは-O-,もしくは-NH-を表す。R1 は2価の基を,R2 は水素原子,もしくはアルキル基を表す。〕

IPC (6件)：

C08F 20/20 MML ,  C08F 20/56 MNF ,  C08F220/06 MLR ,  C08F220/06 MLU ,  C08F220/28 MMQ ,  G03F 7/038

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平2-123988
  
• 特開昭57-198119