特許
J-GLOBAL ID:200903055197731316
粒子線治療装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
曾我 道治
, 古川 秀利
, 鈴木 憲七
, 梶並 順
, 大宅 一宏
, 上田 俊一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-080918
公開番号(公開出願番号):特開2008-161716
出願日: 2008年03月26日
公開日(公表日): 2008年07月17日
要約:
【課題】入射される荷電粒子ビームのエネルギーが変動しても、エネルギーが安定化され、停止の頻度が低く、エネルギーや強度の変動が小さな粒子線治療装置を提供する。【解決手段】粒子線治療装置は、荷電粒子ビームを患部に照射して治療する粒子線治療装置において、厚みが場所により異なり、透過する荷電粒子ビームのエネルギーを上記厚みに比例する分だけ低下するレンジシフタと、入射される荷電粒子ビームのエネルギーの大小に比例する厚みの上記レンジシフタの場所を透過する軌道に上記荷電粒子ビームを偏向する偏向電磁石と、上記偏向電磁石の下流側に配置され、上記荷電粒子ビームを上記偏向電磁石に入射したときの軌道の延長線上に戻す4極電磁石と、を備えるエネルギー安定化装置を具備する。【選択図】図6
請求項(抜粋):
荷電粒子ビームを患部に照射して治療する粒子線治療装置において、
厚みが場所により異なり、透過する荷電粒子ビームのエネルギーを上記厚みに比例する分だけ低下するレンジシフタと、
入射される荷電粒子ビームのエネルギーの大小に比例する厚みの上記レンジシフタの場所を透過する軌道に上記荷電粒子ビームを偏向する偏向電磁石と、
上記偏向電磁石の下流側に配置され、上記荷電粒子ビームを上記偏向電磁石に入射したときの軌道の延長線上に戻す4極電磁石と、
を備えるエネルギー安定化装置を具備することを特徴とする粒子線治療装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (5件):
4C082AC04
, 4C082AC05
, 4C082AC06
, 4C082AG13
, 4C082AG42
引用特許:
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