特許

J-GLOBAL ID：200903055201139990

露光装置及び露光方法

発明者： 畑田 仁志
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (2件)： 渡辺 隆男 ,  大澤 圭司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-277083
公開番号（公開出願番号）：特開2008-098325
出願日： 2006年10月11日
公開日（公表日）： 2008年04月24日
要約：

【課題】マスク上のパターンを高精度で基板上に投影露光する。【解決手段】マスク11に照明光を照射する照明光学系10と、照明光を基板上に投影する投影光学系12とを備えた露光装置において、マスクのパターン面に所定の第1曲面を形成させる第1保持体21a,21bと基板の結像面に所定の第2曲面を形成させる第2保持体22a,22bとを有し、第1曲面と第2曲面とを維持しつつ、マスク上のパターンを基板上に投影露光する。また、第2曲面は第1曲面に合わせて形成されるものとする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

マスクに照明光を照射する照明光学系と、 前記照明光を基板上に投影する投影光学系とを備えた露光装置において、 可撓性を有する前記マスクと、 可撓性を有する前記基板と、 前記マスクを保持し、前記マスクに第1曲面を形成させる第1保持体と、 前記基板を保持し、前記基板に第2曲面を形成させる第2保持体とを備え、 前記第2曲面は、前記第1保持体により形成される前記第1曲面に合わせて形成されることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (6件)：

H01L21/30 516Z ,  H01L21/30 515F ,  H01L21/30 515G ,  H01L21/30 518 ,  G03F7/20 521 ,  G03F7/20 501

Fターム (24件)：

2H097AA04 ,  2H097AA16 ,  2H097AB09 ,  2H097BA01 ,  2H097BA10 ,  2H097DA11 ,  2H097DB12 ,  2H097GB00 ,  2H097LA09 ,  2H097LA10 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC08 ,  5F046CC09 ,  5F046CC11 ,  5F046DA05 ,  5F046DA06 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DC04 ,  5F046DC10 ,  5F046DD03

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特許第3341767号
  
• 第2793000号