特許
J-GLOBAL ID:200903055210920280

カルボシラン及びポリカルボシラン

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高木 千嘉 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-071336
公開番号(公開出願番号):特開2001-328991
出願日: 2001年03月14日
公開日(公表日): 2001年11月27日
要約:
【要約】【課題】 電子材料として有用な化合物である新規なカルボシラン及びポリカルボシランを提供すること。【解決手段】 下記一般式(1)で表わされるカルボシラン及びこれをモノマーとして有機典型金属を開始剤として重合反応することにより得られるポリカルボシランによる。【化1】ここで、MはSn、GeまたはPb原子を表わし、Aは、炭素数2〜10の脂肪族基、炭素数6〜30の炭素環式基または珪素、酸素、窒素及び硫黄原子のうちの1種以上を有する複素環式基であり、R1、R2、R3、R6、R7及びR8は互いに独立に炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基若しくはアルキニル基または炭素数6〜20のアリール基であり、R4、R5、R9及びR10は互いに独立に炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基若しくはアルキニル基、炭素数3〜20のアルケニルアルキル基若しくはアルキニルアルキル基または炭素数6〜20のアリール基である。
請求項(抜粋):
下記一般式(1)で表わされるカルボシラン。【化1】ここで、MはSn、GeまたはPb原子を表わし、Aは、炭素数2〜10の脂肪族基、炭素数6〜30の炭素環式基または珪素、酸素、窒素及び硫黄原子のうちの1種以上を有する複素環式基であり、R1、R2、R3、R6、R7及びR8は互いに独立に炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基若しくはアルキニル基または炭素数6〜20のアリール基であり、R4、R5、R9及びR10は互いに独立に炭素数1〜20のアルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基若しくはアルキニル基、炭素数3〜20のアルケニルアルキル基若しくはアルキニルアルキル基または炭素数6〜20のアリール基である。
IPC (3件):
C07F 7/22 ,  C08G 77/60 ,  G03F 7/075 521
FI (3件):
C07F 7/22 V ,  C08G 77/60 ,  G03F 7/075 521
引用特許:
審査官引用 (1件)
引用文献:
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