特許

J-GLOBAL ID：200903055212297989

リソグラフィ装置、整列システム、およびデバイス製造方法

発明者： アリー ジェフリー デン ボエフ ,  アンドレ ベルナルデュス ヨイニンク ,  ヘンリクス ペトルス マリア ペレマンス ,  イルワン ダニー セティヤ ,  カス ヨハネス ペトルス マリア ファン ヌエーネン ,  シュテファン カロルス ヤコブス アントニウス カイユ
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  山本 貴和 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-307772
公開番号（公開出願番号）：特開2006-114919
出願日： 2005年09月22日
公開日（公表日）： 2006年04月27日
要約：

【課題】リソグラフィ投影装置において、基板をこの装置に整列するために要する基板上の整列マークのスペースを最小にして、基板を有効使用する整列システム・方法を提供すること。【解決手段】整列システムは、基板のスクライブレーン5の中にある、複数のライン・スペースを含む整列マーク18を照明スポット7で照明し、その二つの像を空間フィルタリングなしに転送し、これらの像を互いに対して180°回転し、かつ二つの像を結合し、この結合した像から整列信号を検出し、この検出した整列信号の中の複数の極値の一つを選択することによって唯一の整列位置を決める。整列マークは、基板の粗および微細整列の両方に使うことができ、両段階に別々のマークが必要ないので、整列目的で基板上に必要なスペースが少ししか要らない。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

リソグラフィ装置であって、 放射線ビームを調節するように構成した照明システム、 パターン化した放射線ビームを作るために該放射線ビームの断面にパターンを与えることができるパターニング装置を支持するように構成した支持体、 基板を保持するように構成した基板テーブル、 パターン化したビームを基板の目標部分上に投影するように構成した投影システム、および 基板上の、複数のライン・スペースを含む、整列マークを照明スポットで照明するように構成した整列システム、を含み、該整列システムが、 照明した整列マークの二つの像を空間フィルタリングなしに転送し、これらの像を互いに対して180°回転し、かつ二つの像を結合するように構成したコンバイナシステム、および 結合した像から整列信号を検出し、かつ検出した整列信号の中の複数の極値の一つを選択することによって唯一の整列位置を決めるように構成した検出システム(28)、を含む装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00 ,  G01B 11/00

FI (5件)：

H01L21/30 525W ,  H01L21/30 522D ,  H01L21/30 525H ,  G03F9/00 H ,  G01B11/00 H

Fターム (30件)：

2F065AA03 ,  2F065AA07 ,  2F065AA14 ,  2F065AA20 ,  2F065AA37 ,  2F065BB02 ,  2F065BB28 ,  2F065CC20 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065FF61 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065LL46 ,  2F065MM03 ,  2F065MM25 ,  2F065PP12 ,  2F065PP24 ,  2F065QQ25 ,  2F065RR07 ,  2F065UU05 ,  5F046BA03 ,  5F046EA07 ,  5F046EB01 ,  5F046EB07 ,  5F046FA05 ,  5F046FC04

引用特許：

審査官引用 (2件)

• アライメントセンサ、アライメントセンサシステム、イメージ回転形干渉計及びアライメントマーク検出方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-121418   出願人：エスヴイジーリトグラフイーシステムスインコーポレイテツド
• 半導体製造装置における合わせマークの検出方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-275550   出願人：株式会社日立製作所