特許
J-GLOBAL ID：200903055227015815
マットの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-151121
公開番号（公開出願番号）：特開平6-337305
出願日： 1993年05月28日
公開日（公表日）： 1994年12月06日
要約：
【要約】【目的】 中心から周辺まで一様な明るさを得る。【構成】 平面基板上にポジ型フォトレジストパターンを形成する。次に、平面基板を基板平面内で回転しつつ加熱して、上記フォトレジストパターンを変形し、上部が平面基板の外周方向に偏向した略レンズ状の曲面を有するフォトレジストの集合体を形成する。その後、上記集合体を母型に用いて電鋳反転し、凹形のファーザーを得る。次に、ファーザーを電鋳反転して凸形のスタンパを作り、このスタンパを用いて凹状のマットを得る。凹状の形状は、その頂点がマットの外周方向に偏心しており、凹状を透過した光は、マットの中心軸の方向に回折する。
請求項（抜粋）：
平面基板上にポジ型フォトレジストを塗布した後、プレベークし、次いでフォトマスクを通して上記ポジ型フォトレジストを露光、現像処理し、上記フォトマスクの遮光部の形状を底面あるいは上面とする略柱状のフォトレジストパターンを形成する工程と、上記平面基板を基板平面内で回転させつつ加熱して上記フォトレジストパターンを変形させ、その上部が平面基板の外周方向に偏向した略レンズ状の曲面を有するフォトレジストの集合体を形成する工程と、降温して上記フォトレジストの集合体を硬化したものを母型に用いて電鋳反転し、ファーザーを作る工程と、上記ファーザーを電鋳反転してスタンパ作る工程と、上記スタンパを用いて樹脂を成形しマットを得る工程とからなるマットの製造方法。
IPC (2件)：
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