特許
J-GLOBAL ID：200903055227431320
閉ループガス浄化システムの性能評価
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 敬四郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-266497
公開番号（公開出願番号）：特開平5-347443
出願日： 1991年10月15日
公開日（公表日）： 1993年12月27日
要約：
【要約】【目的】 レーザ用ガス媒体等、微量不純物に敏感なガスを浄化しつつ、循環させて使用する閉ループガス浄化システムの性能評価に関し、ガス利用装置で使用し、不純物が発生したガスをガス浄化装置で不純物を除去して浄化し、再びガス利用装置に供給して使用する閉ループガス浄化システムの性能評価方法であって、比較的安価で簡便な測定装置を用いて適切にガス浄化装置の性能評価を行うことのできる閉ループガス浄化システムの性能評価方法を提供することを目的とする。【構成】 ガス利用装置で使用し、不純物が発生したガスをガス浄化装置で不純物を除去し、再びガス利用装置に供給して使用する閉ループガス浄化システムの性能評価方法であって、ガス浄化装置の入口不純物濃度の時間変化をモニタすることにより、ガス浄化装置の出口不純物濃度を堆定する。
請求項（抜粋）：
ガス利用装置で使用し、不純物が発生したガスをガス浄化装置で不純物を除去して浄化し、再びガス利用装置に供給して使用する閉ループガス浄化システムの性能評価方法であって、ガス浄化装置の入口不純物濃度の時間変化をモニタすることにより、ガス浄化装置の出口不純物濃度を堆定する閉ループガス浄化システムの性能評価方法。
IPC (4件)：
H01S 3/036
, B01D 53/34
, G08B 21/00
, B01D 53/04
