特許
J-GLOBAL ID：200903055228682092
有機非線形光学薄膜の製膜方法
発明者：
,
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
伊藤 研一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-072101
公開番号（公開出願番号）：特開2001-264827
出願日： 2000年03月15日
公開日（公表日）： 2001年09月26日
要約：
【要約】【課題】3次非線形光学特性に優れ、信頼性の高い光デバイスに適した有機非線形光学薄膜を製膜することができる。簡易な手段により結晶分子の配向性に優れた有機非線形光学薄膜を製膜することができる。【解決手段】基板上の有機非線形光学薄膜を蒸着した後に該薄膜分子を結晶化して有機非線形光学薄膜を製膜する。基板及び有機非線形光学薄膜を有機溶剤ガス処理して有機非線形光学薄膜分子をエピタキシー成長させる。
請求項（抜粋）：
基板上の有機非線形光学薄膜を蒸着した後に該薄膜分子を結晶化して有機非線形光学薄膜を製膜する方法において、基板及び有機非線形光学薄膜を有機溶剤ガス処理して有機非線形光学薄膜分子をエピタキシー成長可能にした有機非線形光学薄膜の製膜方法。
Fターム (7件)：
2K002BA01
, 2K002CA05
, 2K002DA04
, 2K002FA06
, 2K002GA10
, 2K002HA20
, 2K002HA32
