特許
J-GLOBAL ID：200903055241806388

酒石酸低級アルキルジエステルの製造法

発明者：
佐藤 治代

佐藤 治代 について

, 
石川 学哉

石川 学哉 について


出願人/特許権者：
東レ株式会社

東レ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-318322
公開番号（公開出願番号）：特開2002-128738
出願日： 2000年10月18日
公開日（公表日）： 2002年05月09日
要約：
【要約】【課題】高品質の酒石酸低級アルキルジエステルを安価に製造する方法を提供することにある。更に、光学活性酒石酸を使用する場合には、光学純度の低下を抑制し、高い光学純度の酒石酸低級アルキルジエステルの製造法を提供することにある。【解決手段】酒石酸と低級アルキルアルコールを反応させて製造した酒石酸低級アルキルジエステルを薄膜蒸留する。
請求項（抜粋）：
酒石酸と低級アルキルアルコールをエステル化反応させて得られる酒石酸低級アルキルジエステルを薄膜蒸留することを特徴とする酒石酸低級アルキルジエステルの製造法。
IPC (7件)：
C07C 67/54 ,  C07C 67/08 ,  C07C 67/14 ,  C07C 69/70 ,  C07B 53/00 ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00
FI (7件)：
C07C 67/54 ,  C07C 67/08 ,  C07C 67/14 ,  C07C 69/70 ,  C07B 53/00 F ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00
Fターム (13件)：
4H006AA02 ,  4H006AC48 ,  4H006AC81 ,  4H006AD11 ,  4H006BA28 ,  4H006BA37 ,  4H006BA66 ,  4H006BE51 ,  4H006BN10 ,  4H006KA06 ,  4H006KA14 ,  4H039CA66 ,  4H039CL25
引用特許：
審査官引用 (6件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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