特許

J-GLOBAL ID：200903055255481279

メタンハイドレートの製造方法及び製造装置

発明者： 谷井 忠明 ,  吉川 孝三 ,  峯元 雅樹 ,  渡部 正治 ,  惣万 芳人 ,  安藤 喜昌 ,  西田 清則
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 大場 充 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-295942
公開番号（公開出願番号）：特開平11-130700
出願日： 1997年10月28日
公開日（公表日）： 1999年05月18日
要約：

【要約】【課題】 メタンと水とを反応させて高濃度のメタンハイドレートを効率よく製造する方法とその製造装置を得る。【解決手段】 仕切板5を有する反応容器1内で水相Lを上昇流室6から上部室8、下降流室7、水相循環ポンプ9を経て循環し、メタン導入口10から上昇流室6にメタンを供給して水と反応させ、反応によって生成し前記水相の液面S近傍に浮上したメタンハイドレート層MHを液層抜出口16から回収する。

請求項（抜粋）：

メタンと水とを反応させてメタンハイドレートを製造するに際して、水相に上昇流と下降流とからなる循環流を形成し、この循環流にメタンを供給して水と反応させ、反応によって生成し前記水相の液面近傍に浮上したメタンハイドレート層を回収することを特徴とするメタンハイドレートの製造方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭59-225127
  
• 循環流動接触反応方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-105101   出願人：千代田化工建設株式会社
• 特開昭54-117379
  
• 特開平4-316795