特許

J-GLOBAL ID：200903055266676756

二酸化チタン顔料の製造方法

発明者： 萩原 浩行 ,  伊藤 桂 ,  坂本 浩 ,  前田 真志
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 内田 幸男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-142166
公開番号（公開出願番号）：特開平9-301715
出願日： 1996年05月13日
公開日（公表日）： 1997年11月25日
要約：

【要約】【課題】 凝集粒の少ない二酸化チタン顔料を工業的有利に製造する方法を提供する。【解決手段】 二酸化チタンスラリーを攪拌しながら加圧瀘過し、次いで得られたスラリーを媒体流動層乾燥またはスプレー乾燥する。または、二酸化チタンスラリーを加圧瀘過し、次いで媒体流動層乾燥する。

請求項（抜粋）：

二酸化チタンスラリーを攪拌しながら加圧瀘過洗浄し、続いて、得られた二酸化チタンスラリーを媒体流動層乾燥またはスプレー乾燥することを特徴とする二酸化チタン顔料の製造方法。