半導体製造装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三好祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-314303
公開番号（公開出願番号）：特開平10-144766
出願日： 1996年11月11日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：

【要約】【課題】バッファカセット庫でのウェーハカセットの待機状態での無用の酸化を防止し、更にカセット収納ケースの取扱いを効率よくし、作業者の負担を軽減する。【解決手段】ウェーハカセット14を収納するバッファカセット庫21を具備する半導体製造装置に於いて、前記ウェーハカセットがカセット収納ケースに収納された状態で前記バッファカセット庫に収納される構成であり、又バッファカセット庫のウェーハカセットを受載する受載棚に不活性ガス供給管、排気管が接続され、カセット収納ケースが前記受載棚に載置された状態でカセット収納ケース内部に不活性ガスが供給される構成であり、バッファカセット庫に収納されるウェーハカセットはカセット収納ケースに収納された状態となっているので、空のカセット収納ケースの処理を考慮することなく、作業性が向上し、又バッファカセット庫で待機中のウェーハカセットはカセット収納ケース内で不活性ガス雰囲気となっているので無用の酸化が防止される。

請求項（抜粋）：

ウェーハカセットを収納するバッファカセット庫を具備する半導体製造装置に於いて、前記ウェーハカセットがカセット収納ケースに収納された状態で前記バッファカセット庫に収納されることを特徴とする半導体製造装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 , B65G 49/00 , B65G 49/07

FI (3件)：

H01L 21/68 A , B65G 49/00 A , B65G 49/07 L

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