特許
J-GLOBAL ID:200903055284598746
液状フォトソルダレジスト組成物及びこの組成物から調整されたフォトソルダレジストフィルム
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
正林 真之
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-526820
公開番号(公開出願番号):特表2007-506137
出願日: 2004年05月17日
公開日(公表日): 2007年03月15日
要約:
【課題】アルカリ水溶液で現像可能な紫外線硬化性樹脂による乾燥過程におけるエポキシ化合物の現像性の低下を最小化し、解像性に優れると共にソルダ耐熱性及びめっき耐性が向上された液状フォトソルダレジスト組成物等を提供すること。【解決手段】液状フォトソルダレジスト組成物は、アルカリ水溶液で現像可能な紫外線硬化性樹脂と、紫外線反応型アクリル単量体と、エポキシ樹脂と、光重合開始剤と、有機溶媒とを含む。このエポキシ樹脂は、シアヌル酸化合物をアクリル酸系単量体と反応させてアクリル基を有する反応生成物を製造するステップ(a)と、このステップ(a)での反応生成物にエピクロロヒドリンを添加してエポキシ基を導入するステップ(b)とを備えるステップを経て調整されるような、1つのエポキシ基及び2つ以上のアクリル基を分子内に含むイソシアヌレート構造である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
アルカリ水溶液で現像可能な紫外線硬化性樹脂と、紫外線反応型アクリル単量体と、エポキシ樹脂と、光重合開始剤と、有機溶媒とを含む液状フォトソルダレジスト組成物であって、
前記エポキシ樹脂は、シアヌル酸化合物をアクリル酸系単量体と反応させてアクリル基を有する反応生成物を製造するステップ(a)と、ステップ(a)での前記反応生成物にエピクロロヒドリンを添加してエポキシ基を導入するステップ(b)とを備えるステップを経て調整されるような、1つのエポキシ基及び2つ以上のアクリル基を分子内に含むイソシアヌレート構造である液状フォトソルダレジスト組成物。
IPC (2件):
FI (3件):
G03F7/027 515
, G03F7/027 502
, H05K3/28 D
Fターム (24件):
2H025AA02
, 2H025AA04
, 2H025AA10
, 2H025AB15
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC14
, 2H025BC42
, 2H025BC43
, 2H025BC74
, 2H025BC82
, 2H025BC83
, 2H025BD03
, 2H025BD53
, 2H025CA00
, 2H025CB30
, 2H025CC03
, 2H025CC17
, 2H025FA17
, 2H025FA29
, 5E314AA27
, 5E314AA32
, 5E314GG11
, 5E314GG14
引用特許:
審査官引用 (2件)
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特開平1-174522
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特開2051-167349
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