特許
J-GLOBAL ID：200903055292453153
リフローはんだ付け用還元性雰囲気ガスおよびその供給装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
大橋 弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-006184
公開番号（公開出願番号）：特開平5-206632
出願日： 1992年01月17日
公開日（公表日）： 1993年08月13日
要約：
【要約】【目的】 リフローはんだ付けに際して活性フラックスの使用とそれに伴うフロン洗浄を行う必要のない還元性雰囲気ガスとその供給装置を得る。【構成】 窒素ガス1にバブリング装置7にて発生させたアルコール蒸気をガス混合器9にて添加して還元性雰囲気ガスを得、これをリフローはんだ付け炉内に曝露してこの還元性雰囲気ガス中においてはんだ付けを行うことより、活性フラックスを使用しないで酸化銅皮膜を還元させる。【効果】 活性フラックスを使用しないで済むので、フロン洗浄の必要もなくなる。又、多少の酸素の混入は許容されるので、高価な窒素ガスの節約を図ることができる。
請求項（抜粋）：
窒素ガスにアルコール蒸気を添加したリフローはんだ付け用還元性雰囲気ガス。
IPC (2件)：
引用特許：
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