特許
J-GLOBAL ID:200903055293871978
プラズマ浸炭炉
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
入山 宏正
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-311504
公開番号(公開出願番号):特開平6-136509
出願日: 1992年10月27日
公開日(公表日): 1994年05月17日
要約:
【要約】【目的】本発明は、浸炭処理にかかる時間を短くでき、また小物の金属製品を積載して浸炭処理する場合や複雑な形状の金属製品を浸炭処理する場合でも浸炭を均一にでき、更に充填率を高くできる、プラズマ浸炭炉を提供するものである。【構成】本発明は、炉殻内に断熱材で囲繞された処理室が形成されており、該処理室に載置台が装備されていて、該断熱材と該載置台とが高周波電源に接続されて成ることを特徴としている。
請求項(抜粋):
炉殻内に断熱材で囲繞された処理室が形成されており、該処理室に載置台が装備されていて、該断熱材と該載置台とが高周波電源に接続されて成ることを特徴とするプラズマ浸炭炉。
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