特許

J-GLOBAL ID：200903055300276266

複合薄膜及び薄膜の形成方法

発明者： 蓬原 正伸 ,  ▲吉▼岡 克昭 ,  高井 治
出願人/特許権者： 日本ペイント株式会社
代理人 (1件)： 吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-037835
公開番号（公開出願番号）：特開平9-228028
出願日： 1996年02月26日
公開日（公表日）： 1997年09月02日
要約：

【要約】【課題】 光学バンドギャップエネルギーが幅広く、コストパフォーマンスの高い亜鉛化合物を用いて、プラスチック素材から無機素材まで幅広い基板に、光学素子、色材に適用可能な薄膜を提供する。【解決手段】 窒素化合物と酸素化合物により、特に窒化亜鉛と酸化亜鉛により構成される複合薄膜、及び窒素、酸素、アルゴンの少なくとも1種のプラズマガスを用いてスパッタリング法により、窒素化合物薄膜、又は窒素化合物と酸素化合物とからなる薄膜、特に窒化亜鉛薄膜、または窒化亜鉛と酸化亜鉛とからなる薄膜を構成する薄膜形成方法により、所望の光学バンドギャップエネルギーと色を有する化合物の薄膜を生成でき、低温成膜が可能であるため、基板の材質の選択の幅が広がる。

請求項（抜粋）：

窒素化合物と酸素化合物とにより構成されることを特徴とする複合薄膜。

IPC (3件)：

C23C 14/06 ,  C23C 14/34 ,  H01L 31/04

FI (4件)：

C23C 14/06 K ,  C23C 14/34 N ,  C23C 14/34 M ,  H01L 31/04 V