特許
J-GLOBAL ID：200903055306959438
応力測定方法及び装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-138766
公開番号（公開出願番号）：特開平6-347343
出願日： 1993年06月10日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：
【要約】【目的】本発明の目的は、測定箇所の可視化及び特定化を行うことにより、極微小部(サブマイクロメ-タ又はナノメ-タオ-ダ-)の応力値又は応力分布状態を精度良く求める応力測定方法及び装置を提供することにある。【構成】電子銃1から出た電子線2は試料6に照射され、発生した2次電子は検出器7で検出され、画像処理装置9により試料の表面形態を表示する。レ-ザ光源10から出たレ-ザ光11は試料6に照射され、発生したラマン散乱光は検出器16で検出され、得られたラマンスペクトルはコンピュ-タ8に読み込まれる。各走査点での周波数シフト値から応力値を求め、画像処理装置9によりその応力分布状態を表示する。画像処理装置9の画面の中心は電子線のスポット中心及びレ-ザのスポット中心に一致するように設定してあるので、微動ステ-ジ17により測定箇所を画像処理装置9の画面の中心に一致するように試料6を移動することにより、特定化した箇所の応力を測定することができる。
請求項（抜粋）：
レ-ザ光源と、レ-ザ光を被応力測定物表面にスポット状に絞るための対物レンズと、散乱光を分光計に導くためのハ-フミラ-と、分光器とを備えたラマン分光法による応力測定方法において、電子線を照射して発生する2次電子を検出し、測定箇所の可視化及び特定化を行うことにより、極微小部の応力値又は応力分布状態を測定することを特徴とする応力測定方法。
IPC (3件)：
G01L 1/00
, G01L 1/24
, G01N 21/65
