特許

J-GLOBAL ID：200903055336585265

外観検査装置および外観検査方法

発明者： 上田 泰広
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 倉内 義朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-267415
公開番号（公開出願番号）：特開2002-071576
出願日： 2000年09月04日
公開日（公表日）： 2002年03月08日
要約：

【要約】【課題】 欠陥を乱反射光観察で高精度にもれなく検出するとともに、むら等の欠陥を正反射光観察により検出することができる外観検査装置および外観検査方法を提供する。【解決手段】 被検査ワーク5を保持するステージ部6と、被検査ワーク5を照射する照明部1と、被検査ワーク5に対する照射を水平一軸方向へ走査させる走査機構部と、走査方向を変更する走査方向変更部と、正反射光を観察する正反射光撮像部3と、乱反射光を観察する乱反射光撮像部4と、これらの撮像部3,4から得られた画像を用いて検査処理を行う検査処理部7と、検査処理の結果を表示する検査結果表示部8とを備えており、両撮像部3,4による被検査ワーク5表面の欠陥検出に続いて、走査方向変更部による照射の走査方向の変更後に、少なくとも反射光撮像部4による欠陥検出を少なくとも1回行う。

請求項（抜粋）：

被検査ワークを保持するステージ部と、被検査ワークを照射する照明部と、被検査ワークに対する照射を水平一軸方向へ走査させる走査機構部と、被検査ワークに対する照射の走査方向を変更する走査方向変更部と、被検査ワークからの正反射光を観察する正反射光撮像部と、被検査ワークからの乱反射光を観察する乱反射光撮像部と、これらの正反射光撮像部および乱反射光撮像部から得られた画像を用いて検査処理を行う検査処理部と、検査処理の結果を表示する検査結果表示部とを備えており、正反射光撮像部および乱反射光撮像部による被検査ワーク表面の欠陥検出に続いて、走査方向変更部による照射の走査方向の変更後に、少なくとも反射光撮像部による被検査ワーク表面の欠陥検出が、少なくとも1回行われることを特徴とする外観検査装置。

IPC (2件)：

G01N 21/956 ,  G01B 11/30

FI (2件)：

G01N 21/956 A ,  G01B 11/30 A

Fターム (29件)：

2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065CC19 ,  2F065DD03 ,  2F065DD06 ,  2F065FF42 ,  2F065GG16 ,  2F065HH05 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL00 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ08 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ32 ,  2G051AA51 ,  2G051AB07 ,  2G051AC02 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051CD04 ,  2G051DA08 ,  2G051EA09 ,  2G051EA16 ,  2G051EB01 ,  2G051ED05