特許

J-GLOBAL ID：200903055340686858

純水製造装置

発明者： 小佐井 清臣 ,  栗原 一郎
出願人/特許権者： 日本錬水株式会社
代理人 (1件)： 岡田 数彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-315453
公開番号（公開出願番号）：特開2001-129543
出願日： 1999年11月05日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
要約：

【要約】【課題】活性炭収容槽(塔)と逆浸透膜モジュールを順次に直列に配置して成る純水製造装置であって、活性炭収容槽(塔)において雑菌の繁殖が防止された通水条件(SV)の採用が可能であり、それにより、菌の混入・付着に起因する逆浸透膜の閉塞が防止されて透過水量の低下が防止され、逆浸透膜モジュールの安定運転が図られる様に改良された純水製造装置を提供する。【解決手段】活性炭収容槽(塔)に繊維状活性炭を収容する。

請求項（抜粋）：

活性炭収容槽(塔)と逆浸透膜モジュールを順次に直列に配置して成る純水製造装置であって、活性炭収容槽(塔)に繊維状活性炭を収容して成ることを特徴とする純水製造装置。

IPC (5件)：

C02F 1/28 ,  B01D 61/02 500 ,  C02F 1/44 ,  B01J 20/20 ,  B01J 20/28

FI (6件)：

C02F 1/28 D ,  B01D 61/02 500 ,  C02F 1/44 C ,  C02F 1/44 H ,  B01J 20/20 B ,  B01J 20/28 A

Fターム (34件)：

4D006GA03 ,  4D006HA01 ,  4D006HA21 ,  4D006HA61 ,  4D006KA02 ,  4D006KA03 ,  4D006KA63 ,  4D006KB12 ,  4D006KD19 ,  4D006KE12P ,  4D006MA01 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MC18 ,  4D006MC45 ,  4D006MC54 ,  4D006MC60 ,  4D006MC62 ,  4D006PA01 ,  4D006PB06 ,  4D006PC11 ,  4D006PC42 ,  4D024AA03 ,  4D024BA02 ,  4D024BB02 ,  4D024DB05 ,  4G066AA05B ,  4G066BA01 ,  4G066BA16 ,  4G066CA01 ,  4G066CA21 ,  4G066CA31 ,  4G066DA07 ,  4G066FA25