特許

J-GLOBAL ID：200903055343157422

酸化膜厚測定システム

発明者： 藤原 健一 ,  安田 隆芳 ,  福本 隆
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立ニユークリアエンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-305274
公開番号（公開出願番号）：特開平11-142577
出願日： 1997年11月07日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：

【要約】【課題】E/C装置で酸化膜厚さを測定する際に、従来測定誤差が生じていた磁性体が付着した酸化膜でも、真の皮膜厚さを非破壊で求められるようにする補正方法である。【解決手段】E/C装置1で酸化膜厚さを測定し、透磁率測定装置2で、酸化膜に付着したクラッドの比透磁率等の磁性の影響量を定量的に測定し、磁性をもつクラッドによって生じたE/C装置1の誤出力値を補正することである。

請求項（抜粋）：

燃料被覆管等の表面の酸化膜厚さを渦電流式膜厚測定器(以下E/C装置と呼ぶ)で測定する方法において、クラッドの透磁率等の磁性の影響量を測定する装置(以下透磁率測定装置と呼ぶ)をE/C装置と組み合わせることにより、クラッドが酸化膜に付着することにより生じるE/C装置の誤信号を補正し、真の皮膜厚さを求めることを特徴とする酸化膜厚測定システム。

IPC (3件)：

G21C 17/003 ,  G01B 7/06 ,  G21C 17/06

FI (3件)：

G21C 17/00 E ,  G01B 7/08 ,  G21C 17/06 M